표면 산화 제어 텅스텐 입자 성능을 보장하고 서비스 수명을 확장하는 핵심 링크입니다. 텅스텐은 공기 또는 고온 환경에서 산화물 층을 형성 할 가능성이 높습니다. 이 산화물 층은 텅스텐의 전도도 및 기계적 특성을 크게 감소시킬뿐만 아니라 후속 처리 프로세스에 악영향을 미칩니다. 따라서, 텅스텐 입자의 표면에 텅스텐 산화물 또는 다른 불활성 코팅과 같은 조밀 한 보호 필름을 형성함으로써, 산화 공정의 발생이 효과적으로 방지되어 텅스텐의 서비스 수명을 확장시킬 수있다. 또한, 진공 또는 불활성 대기 하에서 열 처리 공정을 사용하여, 표면 산화물의 두께 및 구조를 조정할 수 있고 텅스텐 입자의 성능을 추가로 최적화 할 수있다.
표면 코팅 기술은 텅스텐 입자의 표면 처리의 중요한 수단 중 하나입니다. 텅스텐 입자의 표면을 금속 또는 비금속 물질로 덮음으로써, 유동성, 산화 저항, 습윤 특성 및 다른 재료와의 결합 특성을 크게 개선 할 수 있습니다. 예를 들어, 티타늄, 알루미늄 또는 구리와 같은 금속 물질을 코팅하면 텅스텐 입자의 기계적 결합력을 향상시키고 복합 재료에서의 분산 및 계면 결합 강도를 향상시킬 수 있습니다. 알루미나, 실리콘 옥사이드 또는 카바이드 층과 같은 비금속 클래드 재료는 우수한 고온 저항, 부식성 및 단열 특성을 제공 할 수 있으며 전자 포장 및 고온 저항 재료에 널리 사용됩니다. 화학 증기 증착 (CVD), 물리 증기 증착 (PVD) 또는 졸-겔과 같은 고급 공정을 통해 균일 한 코팅 증착을 달성 할 수 있으며, 고품질 표면 코팅을 얻을 수있다.
텅스텐 입자의 표면 변형은 또한 기능화 처리를 포함하며, 이는 특수한 응용 요구를 충족시키기 위해 텅스텐 입자에 특정 기능을 부여하는 것을 목표로한다. 촉매 분야에서, 텅스텐 입자의 표면에 활성 부위 또는 작용기를 도입함으로써 촉매 효율 및 선택성을 상당히 개선 할 수있다. 전자 산업에서, 텅스텐 입자의 전도도를 향상 시키거나 단열 특성의 조절을 달성하기 위해, 특정 기능 그룹을 도입하거나 표면 전하 상태를 조정함으로써 전자 장치에서의 성능을 최적화 할 수있다. 고온 구조 물질의 적용에서, 표면에 고온 저항성 세라믹 코팅 또는 탄소 기반 물질의 도입은 텅스텐 입자의 내열성 및 산화 저항을 효과적으로 향상시킬 수있다.
표면 처리 기술은 텅스텐 입자의 습윤 및 분산을 크게 향상시킨다. 이는 복합 재료 또는 코팅 재료의 제조에 특히 중요하다. 표면에 친수성 또는 소수성 그룹을 도입함으로써, 매트릭스 재료와 텅스텐 입자의 호환성을 조정하여 복합 재료에서 균일 한 분산을 보장하여 응집 및 정착을 피함으로써 재료의 전반적인 성능을 향상시킬 수있다. 표면 기능화 기술의 사용은 또한 텅스텐 입자와 다른 구성 요소 사이의 계면 에너지를 감소시키고, 계면 결합 강도를 향상 시키며, 복합 재료의 기계적 특성 및 내구성을 향상시킬 수 있습니다.
또한, 텅스텐 입자의 표면 처리는 또한 마모 및 부식성을 향상시키는 것도 포함한다. 기계식 가공 또는 높은 마모 환경에서 표면 강화 텅스텐 입자는 서비스 수명을 크게 연장 할 수 있습니다. 세라믹 코팅, 탄산 층 또는 금속 합금 층의 표면 강화를 통해 텅스텐 입자의 경도 및 내마모성은 개선 될뿐만 아니라 산 및 알칼리 부식 및 산화와 같은 외부 부식에 효과적으로 저항하여 극한 환경에서 텅스텐 입자의 안정성과 신뢰성을 보장합니다. 이것은 항공 우주, 원자력, 야금 및 고온 산업에 텅스텐을 적용하는 데 큰 의미가 있습니다 .
